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      真空滲碳爐的優(yōu)點(diǎn)

      2017-09-28

       

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        真空滲碳爐是在低壓真空狀態(tài)下,通過(guò)多次強滲+擴散過(guò)程,以達到零件滲層深度要求的工藝過(guò)程,其控制方法為“飽和值調整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和,在擴散期固溶的碳向內部擴散到目標的要求值,通過(guò)調整滲碳、擴散時(shí)間比,達到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。其優(yōu)點(diǎn)是:

        1.無(wú)內氧化,能顯著(zhù)提高零件表面疲勞性能。

        2.處理后畸變小。

        3.計算機控制,滲碳精度高。

        4.處理后產(chǎn)品表面呈光亮狀,可不經(jīng)清洗、噴丸工序。

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